第29回KENMA研究会開催のご案内

2015年2月，（公社）砥粒加工学会に「研磨の基礎科学とイノベーション化専門委員会」が設立されました．本専門委員会では，「温故知新」の名言に倣い，研磨の歴史・ノウハウ・技術伝承の在り方を探り，そこから次代に向けた課題の明確化とその解決手法開発に取り組むことを目指します．第29回研究会を【結晶材料開発とその研磨プロセス】と題して開催いたします．多数の皆様のご参加をお待ちしています．

日　　時：2025年3月14日（金）13:00～19:00
　　　　　（研究会･･･13:00～16:45，拡大技術交流会･･･17:00～19:00）

開催場所：日本大学 理工学部 駿河台キャンパス 1号館6階CSTホール
　　　　　〒101-8308 東京都千代田区神田駿河台1-8-14
　　　　　https://www.cst.nihon-u.ac.jp/campus/surugadai/（アクセスマップ）
　　　　　JR中央・総武線「御茶ノ水」駅 下車徒歩3分
　　　　　東京メトロ千代田線「新御茶ノ水」駅 下車徒歩3分
　　　　　東京メトロ丸ノ内線「御茶ノ水」駅 下車徒歩5分

内　　容：
【テーマ：結晶材料開発とその研磨プロセス】
13:00～13:05　開会挨拶
　　　委員長　畝田道雄（岐阜大学）

13:05～16:40　話題提供
＜技術講演＞
1) 13:05～13:50　高効率GaN基板加工プロセスとその評価技術
　　　三桜工業株式会社 新事業開発本部 新事業開発室 半導体基板事業Team
　　　Teamリーダー　大宮奈津子 氏
2) 13:50～14:35　Ga2O3結晶技術の現状と課題～基板加工～
　　　株式会社ノベルクリスタルテクノロジー ウエハ技術部
　　　渡辺信也 氏

14:35～14:50　休憩

＜特別講演＞
3) 14:50～15:40　半導体材料の単結晶成長と加工
　　　信州大学 工学部 電子情報システム工学科 教授
　　　太子敏則 氏
4) 15:40～16:30　新時代の酸化物エネルギーデバイス応用：
　　　　　　　　　水素生成・分子加熱フォトニクス結晶・パワー半導体
　　　立命館大学 半導体応用研究センター センター長
　　　総合科学技術研究機構 教授　金子健太郎 氏

16:30～16:35　閉会の挨拶
　　　副委員長　會田英雄（長岡技術科学大学）
17:00～19:00　拡大技術交流会（会場を移して実施します…会場は現在調整中です．）

参 加 費：事前振込みをお願い致します．
研究会参加費　7,000円（税抜額：6,364円，10%対象 消費税：536円）
研究会＋拡大技術交流会参加費　13,000円（税抜額：11,819円，10%対象 消費税：1,181円）
定 　 員：80名（先着順／会場人数制限のため上限を設けています）

注意事項
(1)    予稿集はPDFで配信いたします（ダウンロードアドレスを配信します）．
　　　なお，研究会終了後の再ダウンロード（再配信）に関する対応はできませんのでご注意ください．
(2)    参加申込みは，Googleフォームよりお申込みください．
　　　フォームにご登録後，参加費を2月21日（金）までにお振り込みください．
　　　お振り込みのお名前は「申込者氏名」でお手続きください．
　　　振り込み手数料は貴社でご負担ください．
(3)    請求書および領収書の発行はございません．
　　　金融機関発行の振込明細票等をもって領収書に代えさせて頂きます．
　　　（会社名や個人名を入れた請求書および領収書の発行には対応できませんので，ご了承願います．）
(4)    研究会は13:00～開始しますが，受付は12:30～実施します．
(5)    事前参加受付をして頂いた方のみ，参加できるようにします．当日の参加申込みには対応できません．
(6)    写真撮影や録音・録画は固くお断りします．
(7)    多少の時間延長を生じる可能性がありますこと，あらかじめご理解とご了承のほどお願い申し上げます．
(8)    キャンセルされた場合でも参加費を請求します．予稿集PDFの配信後にキャンセルされた場合，事前入金された参加費の返金に応じることはできません．

参加申込〆切：2025年2月21日（金）
参加申込先：下記のGoogleフォームより参加申込みください．
https://forms.gle/nJ6G7TvCsKjoAQDd8

問合先：岐阜大学 工学部 機械工学科 精密工学（畝田）研究室 KENMA研究会事務局　古田沙知子
TEL：058-293-2627　　E-mail：furuta.sachiko.h0@f.gifu-u.ac.jp

参加費振込先：会告に記載しております．